인테그리스, 인수·신기술 소식 전해… "글로벌 회사로 도약할 것"

[이뉴스투데이 오복음 기자] 인테그리스가 인수와 신기술 소식을 전한 가운데, 글로벌 회사로 도약하겠다는 목표도 함께 밝혔다. 새로운 기술을 도입해 오염 제거 기능을 최적화시키는 한편, 국내 인프라를 확충시켜 세계로 뻗어나가겠다는 방침이다. 

30일 서울 강남구 삼성동 그랜드 인터컨티넨탈 서울에서는 홍완철 인테그리스 사장과 임원들이 참석한 가운데 기자간담회가 열렸다.

이날 간담회에서 마이크로일렉트로닉스 산업 및 기타 첨단 기술 산업용 특수 화학물과 첨단 소재 솔루션을 제공하는 인테그리스는 반도체·생명과학 산업 액체 응용분양용 입도측정기 주력기업인 PSS를 인수했다는 소식을 알렸다.

이번 인수를 통해 인테그리스는 글로벌 기술 플랫폼과 고객 관계를 활용하고 기업 가치를 높이고자 한다고 전했다. 

최근 디지털 전환이 이뤄지면서 로직·메모리칩을 탑재한 정교한 클라우드 컴퓨팅 인프라 수요가 늘어나고 있는데, 인테그리스는 PSS 인수로 확보한 기술을 적용해 액체류 프로세스에서 바로 온라인 및 실시간 입도 분석 수행을 기업들에게 지원한다는 계획이다.

모니터링 프로세스를 자동화하면 적절한 필터 선택 및 시스템 유지관리 등 효과적인 솔루션 활용이 가능하기 때문이다.

토드 에들런드 인테그리스 CEO는 "PSS 기술은 모든 입도를 측정한다는 점에서 특별한데, 높은 품질 기준을 충족할 수 있도록 정확도와 일관성을 유지하면서도 공정을 줄일 수 있게 해주는 툴을 제공하기 위해 노력하겠다"고 말했다.

또 인테그리스는 포토리소그래피 애플리케이션을 위한 'Oktolex 멤브레인' 기술을 선보였다. Oktolex 멤브레인은 각 화학 물질 요구에 맞게 멤브레인 유형들이 갖고 있는 메커니즘을 강화해 중요한 광화학적 오염 물질을 제거하도록 돕는다.

이 기술은 특정 오염 물질 흡착 메커니즘에 멤브레인 특성을 일치시킴으로써 화학적 조성과의 불리한 상호 작용 없이 제거 성능을 최적화시킨다.

클린트 하리스 인테그리스 미세오염제어 사업 총괄 수석 부사장은 "기존 방식에서 탈피해 로직, DRAM, 3D NAND 디바이스 제조용, ArF, KrF 및 EUV 애플리케이션 특정 오염 제어 요구 사항에 대한 맞춤형 접근 방식을 통해 가장 까다로운 오염 물질을 제거할 수 있는 보다 빠르고 깨끗하고 효과적인 방법을 개발했다"고 설명했다.

이어 "이 기술의 진정한 이점은 화학적 조성을 변화시키지 않으면서 표적 오염 물질을 효과적으로 제거하는 멤브레인을 만들 수 있다는 점이다. 이런 이점 덕분에 인테그리스는 고객과의 협력을 통해 노드 요구 사항을 충족하고, 다운타임을 줄이는 정밀 오염 제거 솔루션을 만들 수 있다"고 덧붙였다.

홍완철 인테그리스 사장은 "자사는 이런 기술들을 선보일 뿐 아니라 국내에서도 화성·원주에 공장을 가동하며 아시아 시장 및 글로벌을 공략하고 있다"며 "우리가 갖고 있는 품목들은 장래성이 큰 시장이기 때문에 국내에서 더 인프라를 구축해 나가겠다"고 강조했다.

특히 홍 사장은 "일반 에어를 정제해 오염을 예방시킬 수 있는 장비나 웨이퍼를 운송 보관해주는 시스템은 이미 삼성이나 하이닉스 등에 현재 적용이 되고 있다"며 "이 기술들을 활용해 회사를 성장시켜 글로벌 회사로 발전시키겠다"고 강조했다.