삼성 ‘전환투자’, SK ‘감산’…반도체 불안 속 살 길 모색
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삼성 ‘전환투자’, SK ‘감산’…반도체 불안 속 살 길 모색
삼성전자, 시스템 반도체 사업영역 확대…파운드리 미세공정 경쟁력 확보
SK하이닉스, D램·낸드 생산규모 줄여…“감산 일시적일 것, 내년 회복” 전망
  • 여용준 기자
  • 승인 2019.07.31 13:00
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삼성전자 서초사옥, SK하이닉스 이천 본사. [사진=연합뉴스, SK하이닉스]

[이뉴스투데이 여용준 기자] 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들이 불안정한 메모리 업황에 대응하기 위해 감산과 전환투자 등으로 살길을 찾고 있다. 삼성전자는 최근 D램 생산라인 일부를 이미지센서 생산라인으로 전환하겠다는 계획을 밝혔으며 SK하이닉스는 D램과 낸드플래시 생산량을 일부 조정하기로 했다.

31일 삼성전자의 2분기 실적에 따르면 메모리 반도체는 하반기 계절적 성수기를 맞아 고객사들의 수요는 증가할 것으로 예상되지만 업황은 여전히 불안한 상황이다. 반면 시스템LSI는 계절적 성수기와 함께 6400만 화소 이미지센서와 극자외선(EUV) 7나노 AP 등 고부가 제품에 대한 수요가 늘어나고 파운드리는 EUV 6나노 양산과 4나노 개발 완료, 인프라 구축으로 EUV 선단 공정 경쟁력이 극대화 될 것으로 예상된다. 

이에 따라 메모리는 D램 1y나노 공정 전환과 올해 안에 6세대 V낸드 양산을 통해 기술 경쟁력을 제고할 방침이다. 

시스템LSI는 주력 제품 라인업 외에 3D·FoD(Fingerprint on Display) 센서, 자동차용 반도체, IoT용 칩 개발로 중장기 사업 영역 확대를 추진할 계획이다. 파운드리는 EUV 6나노 양산을 시작하고 EUV 5나노 제품 설계와 4나노 공정 개발을 완료해 미세 공정 경쟁력을 지속 확보해 나갈 예정이다.

제품 라인업이 확대되면서 메모리 반도체 일부 공정도 비메모리 공정으로 전환될 것으로 보인다. 

삼성전자는 지난해 2분기 D램 생산라인인 화성 11라인 일부를 이미지센서 생산라인(S4)으로 전환투자 하겠다는 계획을 밝혔다. 이어 화성 13라인도 이미지센서 생산라인으로 전환투자 하겠다고 밝힌 바 있다.

반도체 업계에서는 이처럼 생산라인을 전환한 것이 사실상 감산효과를 거둔 것으로 보고 있다. 삼성전자는 “D램은 설비 재배치를 통한 생산 라인 최적화 계획이 있고 생산량에도 영향이 있는 것으로 보면 된다”며 “인위적인 감산은 없을 것”이라고 전했다. 앞서 1분기 컨퍼런스콜에서도 “올해는 생산 증설보다 공정 전환이 중심이 될 것”이라고 밝혔다.

또 삼성전자는 SK하이닉스나 마이크론처럼 감산을 할 필요는 없다고 보고 있다. SK하이닉스를 포함한 메모리 반도체 기업들이 20나노급 제품에 한해 감산을 추진하는 것과 달리 삼성전자는 그동안 미세공정 고도화를 통해 전 제품을 10나노 공정에서 생산하고 있어 감산을 할 필요가 없다. 

삼성전자가 공정을 전환하면서 제품군을 다양화하는 반면 SK하이닉스는 생산과 투자를 조정하며 시장에 대응한다는 방침이다. 

25일 발표한 SK하이닉스 2분기 실적에 따르면 올 4분기부터 D램은 생산량을 줄이고 CMOS 이미지 센서(CIS) 사업 경쟁력을 강화하는 차원에서 하반기부터 이천 M10 공장의 D램 캐파 일부를 CIS 양산용으로 전환한다. 여기에 D램 미세공정 전환에 따른 생산 감소 영향이 더해져 내년까지 D램은 지속 줄어들 전망이다.

또 지난해보다 10% 이상 줄이겠다고 밝힌 낸드플래시 웨이퍼 투입량도 15% 이상으로 줄일 것이라 덧붙였다. 이같은 생산·투자 조정과 함께 차세대 미세공정 기술 개발과 고용량·고부가 제품에 대한 생산 비중은 확대한다는 방침이다. 

SK하이닉스는 D램은 10나노급 1세대(1X) 및 2세대(1Y) 생산 비중을 연말 80%까지 높이고 10나노급 2세대 공정을 적용한 제품은 하반기부터 컴퓨팅용 위주로 판매를 시작한다.

낸드플래시는 72단 중심으로 운영하되 하반기부터 96단 4D 낸드 비중을 늘려 고사양 스마트폰과 SSD 시장을 중점적으로 공략한다는 계획이다. 또 128단 1Tb TLC(Triple Level Cell) 4D 낸드도 양산과 판매 준비를 추진할 예정이다.

SK하이닉스의 감산은 일시적일 것으로 전망된다. 업계에서는 SK하이닉스가 업황이 회복될 경우 감산을 철회할 것으로 전망하고 있다. 업계 한 관계자는 “내년부터 업황이 개선되면 감산 정책을 철회하고 정상화 될 것”이라고 전했다. 

SK하이닉스 역시 시장환경에 따라 유연하게 대응하겠다고 전했다. SK하이닉스 관계자는 “시장환경 변화에 맞춰 생산과 투자를 유연하게 조정하고 메모리 중장기 성장에 대비해 제품과 기술 경쟁력을 지속적으로 강화해나갈 것”이라고 밝혔다.

한편 삼성전자와 SK하이닉스는 올해 시설투자도 전년 동기 대비 줄어들었다. 삼성전자의 경우 올 상반기까지 반도체 시설투자는 8조8000억원으로 지난해 같은 기간 13조3000억원보다 약 4조3000억원 가량 줄어들었다. 

SK하이닉스는 D램과 낸드 생산량 조절과 함께 청주 M15 공장의 추가 클린룸 확보와 내년 하반기 준공 예정인 이천 M16 공장 장비반입 시기도 재검토하면서 시설투자 규모가 상당히 줄어들 것으로 예상된다. 


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